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    1. CIF粉体等离子清洗机CPCP-F系列

        CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。
      1. 详细信息

      CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

      等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理化学性质,在保持粉体原有性能的前提下,赋予其表面新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水变为疏水性,从而改善粉体粒子表面的浸润性,增强粉体粒子在介质中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备,新材料、新工艺和新产品开发的重要方法,提高了粉体材料的附加价值,扩大了粉体材料的应用领域。

      CIF推出CPCP-F系列粉体等离子清洗机主要通过内置带搅拌功能的石英转动样品瓶进行粉体样品处理,采用双浮子流量计气体输送控制主要特点是专业、简单、经济实用处理均匀、快速高效、动态清洗,无死角无污染。

       

      技术参数

      型号

      CPCP-F

      CPCP-Fplus

      舱体尺寸

      D200XΦ155mm

      D200XΦ155mm

      舱体容积

      3.8L

      3.8L

      石英转瓶尺寸

      Φ75xH120mm

      Φ75xH120mm

      转瓶转速

      1-15rpm/秒可调

      1-15rpm/秒可调

      射频电源

      40KHz

      13.56MHz

      匹配器

      自动匹配

      自动匹配

      射频功率

      10-300W可调

      10-150W可调

      气体控制

      双浮子流量计

      产品尺寸

      L425xW420xH465mm

      时间设定

      1-99分59秒

      气体稳定时间

      1分钟

      真空度

      100pa以内

      激发方式

      电容式


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