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    1. CIF粉体等离子清洗机CPCP-G系列

        CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。
      1. 详细信息

      CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。

      等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理化学性质,在保持粉体原有性能的前提下,赋予其表面新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水变为疏水性,从而改善粉体粒子表面的浸润性,增强粉体粒子在介质中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备,新材料、新工艺和新产品开发的重要方法,提高了粉体材料的附加价值,扩大了粉体材料的应用领域。

      CIF推出CPCP-G系列新一代带搅拌功能的专为处理粉体样品的等离子清洗机,采用质量流量计MFC)气体输送控制。主要特点是专业、处理样品量大、快速高效、动态清洗,处理均匀、无死角、无污染、气体输入准确。


      技术参数

      型号

      CPCP-G

      CPCP- Gplus

      舱体尺寸

      H120370mm ?

      H120370mm

      舱体容积

      12.8L

      12.8L

      石英转瓶尺寸

      Φ286xH88mm

      Φ286xH88mm

      转瓶转速

      1-15rpm/秒可调

      1-15rpm/秒可调

      射频电源

      40KHz

      13.56MHz

      匹配器

      自动匹配

      自动匹配

      射频功率

      10-300W可调

      10-300W可调

      气体控制

      质量流量计(MFC)(标配单路,可选双路)

      产品尺寸

      L618xW520xH665mm


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